Canon tente une nouvelle approche pour graver les puces sous les 20 nm
Dans une autre brève du jour nous vous parlons de ASLM et de sa nouvelle machine permettant de graver des puces sous les 20nm.
Canon a aussi fait une annonce dans ce domaine en présentant sa propre machine, considérée comme très innovante. Si celle de ASLM utilise encore la technique des masques et des optiques de plus en plus complexes pour transférer le dessin des masques sur le silicium, celle de Canon utilise un procédé appelé nano impression au lieu de la lithographie optique.
Dans ce cas un masque est directement posé à la surface du substrat et transfère ses caractéristiques à ce dernier. Les détails sont un peu flous pour des non initiés mais le procédé est très prometteur pour les gravures les plus fines envisagées, autour du 7nm.
Il ne faut toutefois pas s'emballer. Ce n'est pas la première fois que Canon ou d'autres spécialistes des impressions tentent des percées dans des domaines de ce genre et Canon avait fini par abandonner son idée d'imprimer les écrans OLED par exemple.